上海微电子的光刻机是全国产么，上海微电子光刻机研发

液晶显示单元片高端屏幕制造设备：SPA200系列光学对位设备主要用于液晶显示单元片高端屏幕制造，替代传统的摩擦对位设备。光配向工艺具有非接触、无颗粒静电、配向均匀、配向精度高等优点，可以提高液晶显示器的对比度和良率。

长寸/短寸测量仪：长寸测量多功能，支持短寸测量和光刻胶膜厚测量；长寸测量同时兼容CD/Overlay测量和光刻胶膜厚测量。其特点是测量精度高，CD测量再现性为30 nm，TP测量再现性为280 nm，满足高分辨率光刻的测量要求。

LED/MEMS/功率器件LED、MEMS和功率器件制造：SSB300系列步进投影光刻机面向6英寸以下中小型基板的先进光刻应用，满足单面或双面HB-Masu的需求。 LED、MEMS 和功率器件、光刻工艺的要求。

激光退火设备：IGBT背面退火，SLD500激光退火设备是专门针对IGBT背面退火批量生产工艺而开发的。其特点是热影响控制精确、生产率高。上海微电子生产的设备目前占据国内相关行业80%的市场份额，而面对海外封锁，我国也聚集了相关研究部门进行联合研究。并且他取得了不错的成绩。工作台：清华大学研发的“光刻双工作台系统样机”也于2016年通过了测试，使日本成为少数几个能够开发出光刻设备双工作台系统的国家之一，这是目前光刻机领域最先进的系统。超精细加工.是精密机械和测控技术普及的国家之一。目前精度达到28纳米，略低于ASML的顶级水平。

光源：中科院光电研究所研制的45nm激光光源已通过小规模生产。

曝光系统：2017年6月21日，“超大规模集成电路制造装备及工艺成套”国家科技攻关项目（02项目）顺利通过长春光机研究所验收。专家一致认为，该项目的顺利实施，为我国极紫外光刻技术研发迈出了重要一步。

概述：通过国家02专项的顺利研发，为我国培养相关领域的研发人才，而上海光机大学拥有丰富的光刻机生产经验，并在相关领域的支持下机构。我是。我国的核心装备经过几年的发展已经完成。在我国，光刻设备领域的爆发是不可避免的。声明：图片取自网络。如有侵权，请联系我们删除。

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